“汉星一号”是一颗32位元的处理器，内频是 266 MHz。汉星一号CPU采用0.18um（180纳米） CMOS工艺制造，具有良好的低功耗性，平均功耗0.5瓦特，在片内提供了一种特别设计的硬件机制，可以抗御缓冲区溢出类攻击。在硬件上根本抵制了缓冲溢出类攻击危险，从而大大增加了服务器的安全性。基于汉星CPU的网络安全设备可以满足部门，企业机关对于网络与信息系统安全的需求。
在强大的金钱刺激下，所有人都焕发了超强的战斗力，单单研发投资就达到50亿米金，研发成功后公司上市的金额至少得要数百亿米金，甚至上千亿米金。而许飞扬直接拿出了30%的股份分发给他们，让他们无比的热血激动。虽然很多人对于高林森为何能独占10%股份颇有微词，而自己堂堂院士却只有这一点点而有些不爽，不过再少也是过亿华夏元了，没有人会轻易舍弃，只能是抱着不满继续开工研发。
高林森刚开始接手研发后才知道许飞扬对他有多么的倚重，众多白发苍苍学识深厚的着名院士给他打下手做辅助，全部加起来才是他的2倍股份，这不得不让人对他极为眼红。高林森经过反复思量最终找到许飞扬深入的交流了一番，只保留了5%的原始股份，他认为他个人在研发工程中远远达不到这样的比重，众位老前辈院士也是付出了很大贡献的，最主要的是许飞扬强大的资金支持，几乎不计成本的烧资金进行研发，单单院士博士研究生就数百人，这个科研队伍实在太过壮观了。而且伙食真的是顶级待遇，每人每月3000元的标准，一天24小时不间断服务，只为研究出成果。
而多出来的5%股份许飞扬直接把它作为激励绩效，单独化作一个基金。以后有科研员工做出突出贡献可以给予奖励。未来分红的钱可以为科研人员红利。
这项技术研发出来暂时还和欧米霓虹等先进企业的芯片有所差距，但毕竟是华夏芯片零的突破。
梳理一下现在世界的芯片行业，全球的芯片制程已经萎缩到了65纳米，因为受到摩尔定律的影响，整个芯片行业陷入了技术瓶颈。当时一筹莫展的业内人士都把希望寄托在了以空气为介质的157纳米精度的干式光刻技术上，想着在这个方向上突破一下。而恰恰正是这个瓶颈给了华夏追赶的机会。
全球的光刻机制造领域的头部企业纷纷投入到了干式光刻技术的突破上，陆陆续续地投入了数十亿米金的研发资金，但是一直没有取得什么进展。
从1000纳米到750、500、350、250、180、130、90纳米，半导体业者每一代都用了一些巧妙的方法过关。到了65纳米的世代，波长已缩短到193纳米，镜头的孔径也到了0.93，各种有创意的方法已经把同样波长及孔径的解析度增加了超过两倍，很难再有突破。13.5纳米的极紫外光（EUV）遥不可及，大家的希望都寄托在157纳米的波长上。
157纳米这波长很不好用。其中一个主要原因是这波长的穿透率很低，只有少数可用的介质是透明的，这波长一共有五个瓶颈需要突破：
(1)镜头的材料就是一个瓶颈。唯一有希望的介质是单结晶的二氟化钙（CaF2）。可是要做出20–30公分大小的完美结晶非常困难。拉结晶要很有耐心，整个过程需要约90天。在这期间所需的温度、拉速、震动、周遭的环境等都不能有任何变动。这么长的学习周期，用数百个熔炉都无法改进学习的速度。
(2)感光物质的穿透率及耐蚀刻性，也令发展光阻的高手伤透脑筋。
(3)光罩的材料因二氟化钙价钱太高，而且不耐用，只好用穿透率差的石英（quartz），对高准确度的成像有影响。
(4)在光罩的聚焦区以外的平面有一层透明的护膜，作用是挡开会附在光罩上产生影像瑕疵的微粒。在157纳米的波长发展不出既透明又能伸展的薄膜。用石英的硬片取代则产生无应力把硬片吸附在光罩上的难题。
(5)因为空气中的氧气会吸收157纳米的光，光经过的整个路径必须只有氮气，造成很多不便，会增加制造的成本，而且如果意外漏出太多氮气会致命。
而前世的发展就是林坚本2000年加入弯弯积电，然后推出浸润式微影技术新技术。提出了用水作为浸润式液体，可以帮助光刻机光源波长从193nm推进到132nm，直接跳过157nm！
2002年与国外的asml公司合作研究，并于2003年研制成功量产沉浸式光刻机。正是这项技术，打破了干式光刻机垄断市场的局面，彻底改写了光刻机产业的格局。
而现在许飞扬要做的事情就是阻碍这个进程，让这个进程继续延后，为华夏芯片科技的追赶多提供一点时间。江长在的改变也同样是基于此，把关键的进程稍微加以扭转，就起到了阻碍的作用，敌人走慢了，后面华夏科技追赶起来自然就省力了。
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